• 六氟乙烷(R116)
R116(六氟乙烷,全氟乙烷,C2F6)可用于一種具多功能的蝕刻技術,常見于半導體之生產。它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對其金屬基質的選擇性蝕刻。 叧外,它亦用于蝕刻硅上的二氧化硅。 六氟乙烷作為干腐蝕劑具有邊緣側向侵蝕現象極微、高蝕刻率及高精確性的優點,可以極好地滿足線寬較小的制程要求,被廣泛應用于半導體制作過程中。

R116制冷劑參數
名稱:R116、FC-116 中文名稱:六氟乙烷,電子級氟碳,全氟乙烷,氟里昂116
英文全稱:hexafluoroethane 化學分子式:CF3CF3、C2F6
分子量:138 標準沸點:-78℃
臨界溫度:20℃ 臨界壓力:3MPa(絕壓)
臨界密度:0.613g/cm3 CAS編號:76-16-4

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六氟乙烷(R116)

  • 品牌專區 烏拉
  • 型號: C2F6
  • 庫存狀態: 有庫存
  • ¥1,650.00


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標簽: 制冷劑, R-116, FC-116, 六氟乙烷, 全氟乙烷, C2F6

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