• 硅晶片清洗劑

產品簡介

硅晶片清洗劑是由A、B兩部分組成, 按2:1配合使用,效果極其突出,適合多晶硅、單晶硅等光伏產業硅晶片的清洗。

 

產品特性

1經濟性:屬濃縮型產品,低濃度稀釋使用,平均清洗成本低。

2高效性:脫脂除油效果好、絡合能力強、清洗潔凈度高的特點。

3低泡性:本產品具有低泡性,適用于浸泡、超聲和噴淋等清洗工藝。

 

技術參數

技術參數 執行標準

1 外觀 無色透明液體 無色透明液體 目測

2 比重(20℃) 1.205±0.015 1.035±0.015 GB/T13377-2010

3 pH值(25℃) 13.0±0.5 1.5±0.5 ASTM E70

4 清洗溫度 50-60℃ 50-60℃ Q/OCKX001-2007 


適用范圍

本產品只適合單晶硅、多晶硅等油污、懸浮液、氧化層等清洗,不適合單晶硅片制絨.


使用方法

1建議每100公斤工作液中添加3-6公斤硅晶片清洗劑濃縮液(A:B=2:1),對難清洗或油污比較重的硅片時可以適當根據情況在中間添加清洗劑,為了保證清洗效果,建議每班更換,建議使用去離子水配置工作液。

2一般每公斤硅片清洗劑可以處理125#單晶硅片2500片以上,添加時可以根據該比例計算,當遇到磨光碾磨膏硅片及回收懸浮液切割的硅片時應適當增加藥劑量,當然在保證硅片成品率的情況下也可適當減少添加量。

4硅片在清洗過程中盡可能減少裸露在空氣中的時間,以防止產生花片。

5.建議按如下清洗工藝進行清洗硅片: 第一槽  純水/檸檬酸(乳酸)預洗;第二槽 純水;第三槽    ES-375;第四槽  ES-375;第五槽    純水(后面一般3-4槽純水漂洗)。


注意事項

1線切后的晶棒不可以沾水,如不能及時清洗,最好先存放在懸浮液或清洗劑中(全部浸沒)。

2線切后的晶棒一旦上架清洗,必須馬上處理。而且在整個清洗過程中不可讓硅片自然干燥。

3脫膠時必須保持硅片潤濕,亦不可自然干燥。

4每個清洗周期完成后(如班次的更替),徹底更換五、六、七、八槽的清水槽。

5為保證硅片清洗的潔凈度,在脫膠前的噴淋沖洗時間最好控制在30分鐘以上。

6.工作使用時,應每當4小時檢測一次,但堿度下降或清洗不干凈時并及時添加本劑,以保證工作液的效果。


包裝:

25kg/桶,200kg/桶  塑料桶包裝。   


保質期:

2年 

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硅晶片清洗劑

  • 品牌專區 烏拉
  • 型號: 硅晶片清洗劑
  • 庫存狀態: 有庫存
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標簽: 清洗劑

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