電子氣體
三氟化氮 4N級NF3
三氟化氮(NF3)在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體,是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時裂解為活性氟離子,這些氟離子對硅和鎢化合物,高純三氟化氮具有..
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四氟化碳
四氟化碳(四氟甲烷,全氟化碳,PFC-14,R14)英文名稱Carbon Tetrafluoride Tetrafluoromethane。四氟化碳屬于fc類物質,對臭氧層沒有破壞、但存在溫室效應;四..
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R41制冷劑 10kg/40L
R41制冷劑(一氟甲烷,氟甲烷,甲基氟、氟利昂41、HFC-41),是生產氟溴甲烷的原料。 高純HFC-41氣體是一種綠色、高效的新型蝕刻氣,可選擇性地蝕刻硅化合物的薄膜,常用于半導體及電子..
¥19,980.00
三氟碘甲烷(CF3I) 10kg
三氟碘甲烷(CF3I,三氟甲基碘)作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經濟效用高、滅火后不留痕跡等特點,是哈龍1301優選替代品種,經NFPA的標準認證,可正式使用。在航空、航天等領域具有不可替代的..
¥23,500.00
全氟丁二烯(C4F6) 10kg
全氟丁二烯(C4F6,六氟丁二烯,六氟-1,3-丁二烯)作為一種溫室效應GWP極低,綠色環保的高效干蝕刻氣體,用于半導體產品的等離子介質刻蝕,具有更快刻蝕速率、更高選擇性和更高精確性,更適合于高深寬比..
¥8,800.00