三氟化氮 4N級NF3

三氟化氮（NF3）在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有..

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四氟化碳

四氟化碳（四氟甲烷，全氟化碳，PFC-14，R14）英文名稱Carbon Tetrafluoride Tetrafluoromethane。四氟化碳屬于fc類物質,對臭氧層沒有破壞、但存在溫室效應；四..

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R41制冷劑 10kg/40L

R41制冷劑(一氟甲烷,氟甲烷，甲基氟、氟利昂41、HFC-41)，是生產氟溴甲烷的原料。 高純HFC-41氣體是一種綠色、高效的新型蝕刻氣，可選擇性地蝕刻硅化合物的薄膜，常用于半導體及電子..

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三氟碘甲烷(CF3I) 10kg

三氟碘甲烷(CF3I，三氟甲基碘)作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經濟效用高、滅火后不留痕跡等特點，是哈龍1301優選替代品種，經NFPA的標準認證，可正式使用。在航空、航天等領域具有不可替代的..

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全氟丁二烯(C4F6) 10kg

全氟丁二烯(C4F6，六氟丁二烯，六氟-1,3-丁二烯)作為一種溫室效應GWP極低，綠色環保的高效干蝕刻氣體，用于半導體產品的等離子介質刻蝕，具有更快刻蝕速率、更高選擇性和更高精確性，更適合于高深寬比..

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