三氟化氮（NF3）在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

電子級三氟化氮氣體是近年發展起來的一種新型電子化學品，主要用于電子元件的等離子蝕刻及清洗。三氟化氮用于硅和氮化硅蝕刻時，具有更高的蝕刻速率和選擇性，且在被蝕刻物表面不殘留任何物質。

三氟化氮主要用途:一、用作高能化學激光氣的氟源。二、作為電子工業(IC)中的蝕刻劑、清洗劑。三、應用于太陽能光電產業。NF3其它用途：生產全氟銨鹽，用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度，在采礦和火箭技術中用作氧化劑等。